发明名称 Conducting kerf-regions for a semiconductor device.
摘要 Ein Ritzrahmen (2) für ein Halbleiter-Bauelement soll eine hinreichende Positionierung eines Korpuskularstrahls ermöglichen. Der Ritzrahmen (2) besitzt eine höhere elektrische Leitfähigkeit als die Umgebung des Ritzrahmens (2). Der Ritzrahmen ermöglicht ebenso Schichtwiderstandsbestimmung der Implantation über die Hochfrequenzverlustwiderstandsmessung berührungsund zerstörungsfrei ohne Konakte. Der Ritzrahmen kann auf ein festes äußeres DC-Potential, z. B. Source oder Drain-Potential, gelegt werden, und so können Side-Gating Effekte vermieden werden.
申请公布号 EP0429697(A1) 申请公布日期 1991.06.05
申请号 EP19890121925 申请日期 1989.11.28
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 PONSE, FREDERIK, DR.;BELLE, GABRIELE, DR.;KNAPEK, ERWIN, DR.
分类号 H01L21/304;H01L23/544 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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