COMPOSITION A BASE DE CHLORURE DE METHYLENE - SON UTILISATION POUR L'ENLEVEMENT DES FILMS PHOTORESIST

摘要

L'invention a pour objet une composition à base de chlorure de méthylène et son utilisation pour l'enlèvement des films photoresist sur les circuits imprimés de l'industrie électronique. Outre le chlorure de méthylène, cette composition qui peut être recyclée et utilisée de nombreuses fois, contient au moins un époxyde, de préférence constituée par de l'oxyde de propylène, au moins un alcool, de préférence constitué par du méthanol, et au moins une cétone ou un éther tel que le méthyl-tert-butyléther.