| 主权项 |
1.磁性记录介质之制法,此制法包含一薄铬底层和 一钴合金磁性薄层,依次地在 基板上喷镀形成,喷镀作业时之温度至少为150℃, 并在目的物附近提供一中间电 极,此电极须能围绕目的物喷镀腐蚀端至少1/2之周 围,且其底层和钴合金磁层 中,至少有一层是在此条件下形成:将一相对于基 板和喷镀装置主体接地部分之 正电压加给中间电极,该电压至多为1000伏,而至少 中间电极之一部分须位于目 的物表面上,两上下之距离范围内,其向上之距离 范围为由目的物表面至基板表 面之距离的1/3,其向下之距离范围为由目的物来面 向下30毫米,且中间电极将 置于下列两位置之间;目的物喷镀腐蚀端之周围和 目的物周围之平面向外距离 200毫米之位置;又其中该钴合金磁层为一基本上包 含钴-铬合金之磁性薄层,或 基本上包含钴-镍合金之磁性薄层,或基本上包含 钴-铬-钽合金之磁性薄层。2.依据申请专利范围第 1项之制法,其制法为, 钴合金磁层为钴-铬-钽合金 磁性 薄层,且底层为铬金属层,此金属层其厚度由50至 3000埃。3.依据申请专利范围第1项之制法,其制法 为,将一相对于喷镀装置主体接地部 分之负偏压加给基板。4.用来在基板上形成薄层 之喷镀装置,此装置包含一中间电极及一电压源, 中间 电极置于目的物之附近,电压源则提供一正电压给 此中间电极,其中,目的物与 基板相向,中间电极之形状可围绕目的物喷镀腐蚀 端至少1/2之周围。5.依据申请专利范围第4项之喷 镀装置,此装置为,至少中间电极之一部分须位 于目的物表面上,两上下之距离范围内,其向上之 距离范围为由目的物表面至基 板表面之距离的1/3,其向下之距离范围为由目的物 表面向下30毫米。6.依据申请专利范围第4或第5项 之喷镀装置,此装置为,中间电极置于下列两位 置之间,目的物喷镀腐蚀端之周围和目的物周围之 平面向外距离200毫米之位置 。 |
