| 摘要 |
Un dispositif d'enduction d'un substrat avec un liquide, qui peut notamment être une dispersion ou une suspension d'un enduit dans un liquide porteur évaporable, comprend un système d'ajutages qui réunit au moins un ajutage à deux substances d'application intermittente du liquide et d'application d'un gaz. Selon l'invention, l'ajutage à deux substances comprend un ajutage intérieur entouré d'un espace annulaire coaxial, afin d'obtenir ou d'entretenir un courant rotatif de gaz. Dans la surface de l'enveloppe dudit espace annulaire débouche au moins un ajutage d'admission de gaz dont l'axe longitudinal ne coupe pas l'axe longitudinal de l'ajutage intérieur. L'espace annulaire est pourvu d'un orifice de sortie qui entoure l'orifice de sortie de l'ajutage intérieur. Un système permet d'alimenter l'ajutage intérieur par intermittence en lubrifiant et un autre système permet d'introduire en continu le gaz dans l'ajutage d'admission de gaz. |
