| 摘要 |
Dans le dispositif utilisé pour la préparation de couches minces formées d'oxydes métalliques de composés organo-métalliques sur un substrat, un corps creux en forme de tronc de pyramide (3) est placé dans une enceinte (1) dans laquelle un vide peut être établi. Au moins trois fours (8) sont disposés concentriquement à l'axe de symétrie (16) du corps creux (3), à la base (7) de celui-ci, ces trois fours comportant des moyens de réception (9) pour les composés métalliques à vaporiser (10). Les moyens de réception (9) sont munis de tubes de guidage (11) émergeant dans l'espace creux du corps creux (3) et inclinés sur son axe de symétrie (16). L'enveloppe (12) du tronc de pyramide se termine de manière à former un tube (13), au-dessus duquel est disposé un élément (5) capable d'être chauffé, destiné à recevoir le substrat (4). Il est prévu une amenée de gaz (6) qui débouche entre les tubes de guidage (11) et l'extrémité du tube (13), dans l'espace creux (7) du corps creux (3). |
