| 主权项 |
1﹒一种触媒给构,包括金属制触媒支承物,该金属选自铝,高温金属合金,不锈钢,或含铝铁合金,该支承物具有许多多适合燃烧气体通过的通道,以及具有内表面,该内表面至少一部分但不是全部用基面涂层及适合性可燃气体氧化之催化性材枓涂覆,并且用触媒材料涂覆过的内表面与没有用催化性材料涂覆的内表面有热交换关系;其中该基面涂层包含气化,氧化锆、二氧化矽、氧化钛或高熔点金属氧化物,催化性材料包含一种或多种铂族金属,以及含有触媒的通道开放区与不含触媒的通通开放区之比是在1;20与20;1之间。2﹒如申请专利范围第1项的触媒结构,其中,一些通道含催化性材料者。3﹒如申请专利范围第1项的触媒结构,其中所有的通道含有催化性材料者。4﹒如申请专利范围第1项的触媒结构,其中,金属触媒支承物包括一种含有铝的铁合金。5﹒如申请专利范围第1项的触媒结构,其中基面涂层包括氧化铝者。6﹒如申请专利范围第1项的触媒结构,其中基面涂层包括氧化锆者。7﹒如申请专利范围第1项的触媒结构,其中,基面涂层包舌氧化铝、二氧化钛、氧化铝和二氧化矽中至少二种的混合物者。8﹒如申请专利范围第7项的触媒结构,其中基面涂层包括一种氧化锆与二氧化矽的混合物者。9﹒如申请专利范围第1项的触媒结构,其中催化性材料包括铂者。10﹒如申请专利范围第5项的触媒结构,其中催化性材料的包括铂者。11﹒如申请专利范围第1项的触媒结构,其中催化性材料包括钯者。12﹒如申请专利范围第5项的触媒结构,其中催化件材料包括钯者。13﹒如申请专利范围第8项的触媒结构,其中催化性材料包括钯者。14﹒如申请专利范围第4项的触媒结构,其中催化性材料包括钯和铂者。15﹒如申请专利范围第4项的触媒结构,其中含有触媒的通道相对大于不含有触媒的通道者。16﹒如申请专利范围第4项的触媒结构,其中含有触媒的通道相对小于不含有触媒的通道者。17﹒如申请专利范围第4项的触媒结构,其中含有触媒的通道与不含有触媒的通道具有相等尺寸者。18﹒如申请专利范围第4项的触媒结构,其中金属触媒支承物包括一种波纹层的螺旋卷曲面者。19﹒如申请专利范围第4项的触媒结构,其中触媒支承物是一种包含纹面和间隔层的轧制螺旋面者。20﹒如申请专利范围第4项的触媒结构,其中金属触媒支承物是人字形花纹者。21﹒如申请专利范围第4项的触媒结构,其中金属触媒支承物通常包含一般半行交替的波纹状层和平板间隔层者。图示简单说明图l A、l B、1 C、2 A和2 B示出发明的触媒结构的各种形状。图3 A和3 B示出结构的运行状态。图4 A、4 B、5.6A和6 B显着本发明的在支承物的单面上载持有催化材料的触媒结构的各种构形。图7到9显示本发明的触媒结构的运行状态的使用温度曲线。 |
