| 发明名称 |
HEAT TREATMENT OF SEMICONDUCTOR SILICON WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0645339(A) |
申请公布日期 |
1994.02.18 |
| 申请号 |
JP19910159849 |
申请日期 |
1991.06.05 |
| 申请人 |
KOMATSU DENSHI KINZOKU KK |
发明人 |
YOSHINO SHIRO;AKAGI TETSUO;SATO KOZO;KONO MITSUO |
| 分类号 |
H01L21/322;H01L21/324;(IPC1-7):H01L21/324 |
主分类号 |
H01L21/322 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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