在中空主体的内壁上进行等离子辅助化学气相沉积的方法与装置

摘要

本发明涉及一种用于在中空主体(42)的内壁上镀覆或者去除材料的等离子辅助化学气相沉积的方法。所述方法包括将气燃喷枪(44)放入中空主体(42)，以及通过向RF电极(41)施加电射频场，形成等离子体腔(45)，以在气燃喷枪的尖端形成等离子云。

主权项

1. 一种在中空主体(42)的内壁上镀覆或者去除材料的等离子辅助化学气相沉积方法，特别是该中空主体由非金属材料构成，具有横截面区域、纵向长度和至少一个开口(43)，其特征在于，包含以下步骤：--将内侧待镀覆的中空主体放入具有接地内侧的真空腔室(40)，大面积的射频电极(41)被放置在所述真空腔室的内部；--将所述中空主体(42)定位于所述真空腔室(40)的中央，中空主体的外壁与真空腔室的内壁之间的所有侧面之间的最小间距是15cm；--将气燃喷枪(44)经所述开口导入所述中空主体内，所述气燃喷枪具有内径为0.001-10mm最大外径为12mm的管路、以及末端开口直径为0.002-6mm的末端喷嘴，所述气燃喷枪通过非导电的气体管线与送气单元相连接，特别地，未被接地或与射频电极电性连接；--将气燃喷枪定位于中空主体中，使得气燃喷枪相对于所述中空主体的横截面定位于正中央，且所述气燃喷枪的喷嘴相对于所述中空主体的纵向长度、从所述中空主体的开口处起计算位于纵向2/3至3/3之间的区域；--关闭所述真空腔室，抽真空至腔室内的残余压力为0.001-20Pa；--经由送气单元和气燃喷枪向中空主体内引入惰性工作气体以及一种或多种反应气体；以及--通过向RF电极施加电射频场，点燃等离子体腔(45)，以在气燃喷枪的尖端形成等离子云。