| 发明名称 | 抛光垫 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种抛光垫，特别是涉及一种抛光垫的抛光面槽底的宽度为0mm的抛光垫。此抛光垫具有一抛光面，并具有至少一沟槽设于抛光面上，其中沟槽具有一槽口与一槽底，其特征在于抛光面的槽底的宽度为0mm，因此进行于抛光作业时，悬浮于抛光液中的研磨颗粒不易沉积于槽底，避免待磨物受沉积物的刮伤而受损。 | ||
| 申请公布号 | CN201300373Y | 申请公布日期 | 2009.09.02 |
| 申请号 | CN200820133824.6 | 申请日期 | 2008.09.27 |
| 申请人 | 贝达先进材料股份有限公司 | 发明人 | 邱汉郎;陈少禹;郑裕隆 |
| 分类号 | B24D13/14(2006.01)I;B24B29/02(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | B24D13/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 梁爱荣 |
| 主权项 | 1、一种抛光垫，该抛光垫具有一抛光面，具有至少一沟槽设于该抛光面上，其中该沟槽具有一槽口与一槽底，其特征在于，该抛光面的槽底的宽度为0mm。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县 | ||