多次曝光图案分解系统和方法

摘要

本发明涉及多次曝光图案分解系统和方法，具体涉及一种用于识别不满足制造限制的设计布局中的图案的错误标记的方法和系统。一些实施例从错误标记区域扩展区域，以提取用于分解分析的图案。一些实施例将已提取的图案与库中存储的已知图案进行比较，库中还为各个已知的图案存储了至少一种预先计算的分解解决方案。对于库中存在的已提取图案，一些实施例从库中检索预先计算的分解解决方案。对于库中不存在的已提取图案，一些实施例使用一种或多种模拟来确定已提取图案的分解解决方案。所得到的分解解决方案取代设计布局中的已提取图案，产生包含此图案的已分解解决方案的初始布局的变形。

主权项

1. 一种方法，包括：a)识别在不满足至少一个限制的电路设计布局的特定层的图案；b)利用至少一个模拟确定所述图案的分解解决方案，以确定该分解解决方案满足所述至少一个限制；以及c)利用所述分解解决方案取代所述设计布局中的所述图案。