| 发明名称 | 低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法及防反射材料 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是提供即使在水接触角较大的基材上也可在较低的温度下固化而形成高透光性、高硬度、耐擦伤性优良、具有低折射率的被膜的被膜形成用涂布液及其制造方法，以及使用该被膜的防反射材料。该低折射率被膜形成用涂布液的特征在于，含有聚硅氧烷(A)和碳数9～20的长链胺化合物(B)，通过将它们溶解于有机溶剂(C)而成，所述聚硅氧烷(A)具有结合有含氟有机基团的硅原子。 | ||
| 申请公布号 | CN101522839A | 申请公布日期 | 2009.09.02 |
| 申请号 | CN200780038139.3 | 申请日期 | 2007.10.11 |
| 申请人 | 日产化学工业株式会社 | 发明人 | 谷好浩;元山贤一 |
| 分类号 | C09D183/08(2006.01)I;C09D5/00(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;C09D183/02(2006.01)I | 主分类号 | C09D183/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 冯 雅 |
| 主权项 | 1. 一种低折射率被膜形成用涂布液，其特征在于，含有聚硅氧烷(A)和碳数9～20的长链胺化合物(B)，通过将它们溶解于有机溶剂(C)而成，所述聚硅氧烷(A)具有结合有含氟有机基团的硅原子。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||