基板处理装置

摘要

基板处理装置，通过将基板从处理液中移动到溶剂环境中来干燥基板，该装置包括：贮留处理液的处理槽；围绕在处理槽周围的处理腔室；保持基板并可在处理槽内的处理位置与在处理腔室内处于处理槽上方的干燥位置之间升降的保持机构；将溶剂的蒸汽供给到处理腔室的供给部；在处理腔室外回收从处理槽排出的处理液的缓冲罐；使处理腔室内减压的第一减压泵；使缓冲罐内减压的第二减压泵；以及控制部，控制部通过供给部使处理腔室内形成为溶剂环境，通过保持机构将基板从处理位置移动到干燥位置，通过第一减压泵将处理腔室内减压到第一压力，并操作第二减压泵，直到将处理槽内的处理液排放到缓冲罐内为止，将缓冲罐内的压力调整到第一压力以下的第二压力。

主权项

1.一种基板处理装置，使基板从处理液中移动到溶剂环境中，以此对基板进行干燥，该基板处理装置包括：处理槽，其用于贮留处理液；处理腔室，其围绕在所述处理槽的周围；保持机构，其用于保持基板，并能够在所述处理槽内的处理位置与在所述处理腔室内位于所述处理槽上方的干燥位置之间升降；供给单元，其将溶剂的蒸气供给到所述处理腔室内；缓冲罐，其在所述处理腔室外回收从所述处理槽排出的处理液；第一减压单元，其对所述处理腔室内进行减压；第二减压单元，其对所述缓冲罐内进行减压；以及控制单元，其通过所述供给单元使所述处理腔室内成为溶剂环境，通过所述保持机构将基板从处理位置移动到干燥位置，通过所述第一减压单元将所述处理腔室内减压到第一压力，同时操作所述第二减压单元，直到将所述处理槽内的处理液排放到所述缓冲罐内为止，将所述缓冲罐内的压力调整到所述第一压力以下的第二压力。