发明名称 荧光X射线分析装置
摘要 本发明的课题提供一种荧光X射线分析装置,其采用单一检测器,形成简单、低价格的结构,同时,可在较宽的波长范围内以充分的灵敏度,测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。在包括X射线源(3)、发散细缝(5)、分光元件(7)、单一检测器(9)的荧光X射线分析装置中,分光元件(7)采用多个弯曲分光元件(7A,7B),该多个弯曲分光元件(7A,7B)沿从试样(1)和检测器(9)观看,2次X射线的光路(6,8)扩展的方向并排地固定,由此,测定波长不同的多条2次X射线(8a,8b)的相应强度。
申请公布号 CN101520423A 申请公布日期 2009.09.02
申请号 CN200910132665.7 申请日期 2004.03.11
申请人 株式会社理学 发明人 河野久征;庄司孝;堂井真
分类号 G01N23/223(2006.01)I 主分类号 G01N23/223(2006.01)I
代理机构 北京三幸商标专利事务所 代理人 刘激扬
主权项 1. 一种荧光X射线分析装置,该荧光X射线分析装置包括:对试样照射1次X射线的X射线源;对从试样发生的2次X射线进行分光的分光元件;测定通过该分光元件分光的2次X射线的强度的单一检测器;上述分光元件采用单一的分光元件,设置使该分光元件有选择地移动到规定的多个位置的分光元件移动机构,由此,测定波长不同的多条2次X射线的相应强度;上述规定的多个位置包括下述的多个位置,该多个位置分别与试样的间隔开的部位相对应,用于对相同的波长的2次X射线进行分光。
地址 日本国东京都