| 发明名称 | 同轴对准垂向扫描长度的自适应优化方法 | ||
| 摘要 | 一种同轴对准垂向扫描长度的自适应优化方法，其特征在于包括如下步骤：(a)确定垂直方向图像最大有效值及最小有效值；(b)进行对准扫描，得到垂直方向采样点数；(c)对准扫描结束后，根据传感器采样得到的数据进行计算，确定实测图像的最大值与最小值；(d)当实测图像最大值与最小值都在正常值范围内，则更新图像垂直方向图像最大有效值及最小有效值后返回步骤(b)，重新进行对准扫描；(e)当实测图像最大值与最小值不在正常值范围内，则直接返回步骤(b)，重新进行对准扫描。 | ||
| 申请公布号 | CN100535755C | 申请公布日期 | 2009.09.02 |
| 申请号 | CN200510110726.1 | 申请日期 | 2005.11.24 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 朱正平 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 王 洁 |
| 主权项 | 1、一种同轴对准垂向扫描长度的自适应优化方法，其特征在于包括如下步骤：(a)确定垂直方向图像最大有效值及最小有效值；(b)进行对准扫描，得到垂直方向采样点数；(c)对准扫描结束后，根据传感器采样得到的数据进行计算，确定实测图像的最大值与最小值；(d)当实测图像最大值与最小值都在正常值范围内，则更新图像垂直方向图像最大有效值及最小有效值后返回步骤(b)，重新进行对准扫描；(e)当实测图像最大值与最小值不在正常值范围内，则直接返回步骤(b)，重新进行对准扫描。 | ||
| 地址 | 201203上海市张江高科技园区张东路1525号 | ||