发明名称 Chemisch-mechanisches Polieren für die Planarisierung isolierender Dielektrika
摘要
申请公布号 DE69840889(D1) 申请公布日期 2009.07.23
申请号 DE19986040889 申请日期 1998.12.22
申请人 TEXAS INSTRUMENTS INC. 发明人 OLSEN, LEIF C.;SWANSON, LELAND S.;EDWARDS, HENRY L.
分类号 H01L21/304;H01L21/3105;H01L21/3065;H01L21/762;H01L21/768 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
地址