摘要 |
Zum optischen Inspizieren einer Oberfläche (17) wird ein Muster bereitgestellt, das einen ersten räumlichen Intensitätsverlauf (34a) mit einer ersten räumlichen Periode bildet. Der Gegenstand mit der Oberfläche (17) wird relativ zu dem Muster derart positioniert, dass der erste räumliche Intensitätsverlauf (34a) auf die Oberfläche (17) fällt. Es wird eine Anzahl von Primärbildern aufgenommen, die die Oberfläche (17) mit dem ersten räumlichen Intensitätsverlauf (34a) zeigt. In Abhängigkeit von den Primärbildern werden Eigenschaften der Oberfläche (17) bestimmt. Gemäß einem Aspekt der Erfindung wird zumindest ein weiterer räumlicher Intensitätsverlauf (34b, 34c, 34d) mit einer weiteren räumlichen Periode bereitgestellt. Die erste und die weiteren räumlichen Perioden sind verschieden voneinander. Es wird eine Anzahl von weiteren Primärbildern aufgenommen, die die Oberfläche (17) mit dem weiteren räumlichen Intensitätsverlauf (34b, 34c, 34d) zeigen. In Abhängigkeit von den ersten und weiteren Primärbildern wird zumindest eine Kenngröße bestimmt, die für eine Streucharakteristik (110, 112) der Oberfläche (17) repräsentativ ist.
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