| 发明名称 | 曝光装置、曝光方法及组件制造方法 | ||
| 摘要 | 提供一种曝光装置(EX)，以液体(LQ)充满投影光学系统(PL)像面侧之光路空间，透过投影光学系统(PL)与液体(LQ)使基板(P)曝光。曝光装置(EX)具备用以测量液体(LQ)之光学特性的测量装置(30)。可根据测量结果以液体混合装置(19)来调整液体之光学特性。能将液浸曝光时之曝光精度维持于所希望状态。 | ||
| 申请公布号 | CN101487981A | 申请公布日期 | 2009.07.22 |
| 申请号 | CN200910008214.2 | 申请日期 | 2005.10.12 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 长坂博之 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 许海兰 |
| 主权项 | 1、一种曝光装置，透过液体使基板曝光，其特征在于，具备：投影光学系统；液体供应机构，对所述投影光学系统的像面侧供应液体；混合装置，设于所述液体供应机构，用以混合多种类的液体；测量装置，测量以所述混合装置混合后的液体；以及控制装置，根据所述测量装置的测量结果，来调整所述混合装置中多种液体的混合比；所述液体供应机构供应以所述混合装置混合后的液体。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||