发明名称 |
电路板导通孔的制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种电路板导通孔的制造方法,其包含下列步骤:在一绝缘基板的二侧分别形成第一导电层及第二导电层,该绝缘基板、第一导电层及第二导电层共同贯穿形成一通孔;将第一光阻层及第一保护层依序结合于该第一导电层上;将第一溶剂注入该通孔,以洗除该第一光阻层对应于该通孔的部位,进而形成第一窗口;利用光线通过该第一保护层以曝光硬化该第一光阻层,再除去该第一保护层;将第二光阻层及第二保护层依序结合于该第二导电层上;利用相同制造方法在该第二光阻层形成一第二窗口;利用光线通过该第二保护层以曝光硬化该第二光阻层,再除去该第二保护层;及在该通孔电镀形成连通导电层,再去除该第一及第二光阻层。 |
申请公布号 |
CN100518448C |
申请公布日期 |
2009.07.22 |
申请号 |
CN200510123733.5 |
申请日期 |
2005.11.22 |
申请人 |
楠梓电子股份有限公司 |
发明人 |
黄业弘 |
分类号 |
H05K3/42(2006.01)I;H05K1/11(2006.01)I;H05K3/00(2006.01)I |
主分类号 |
H05K3/42(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 |
代理人 |
张 岱 |
主权项 |
1、一种电路板导通孔的制造方法,其包含步骤:在一绝缘基板的二侧分别形成一第一导电层及一第二导电层,且该绝缘基板、第一及第二导电层共同贯穿形成一通孔;将一第一光阻层及一第一保护层依序结合于该第一导电层上;将一第一溶剂注入该通孔,以洗除该第一光阻层对应于该通孔的部位,进而形成一第一窗口;利用一光线通过该第一保护层以曝光硬化该第一光阻层,再除去该第一保护层;将一第二光阻层及一第二保护层依序结合于该第二导电层上,及利用相同制造方法在该第二光阻层形成一第二窗口;利用一光线通过该第二保护层以曝光硬化该第二光阻层,再除去该第二保护层;及在该通孔电镀形成一连通导电层,再去除该第一及第二光阻层。 |
地址 |
中国台湾高雄市楠垶加工区经三路42号 |