| 发明名称 | 成膜装置以及成膜方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种成膜装置和成膜方法，包括：内部维持在减压空间并且处理气体被供给在其中的处理容器；设置在处理容器的内部、用于保持基板的基板保持部；以及由含高熔点金属和碳化合物构成、设置在处理容器的内部、用于对基板进行加热的加热器。 | ||
| 申请公布号 | CN101490809A | 申请公布日期 | 2009.07.22 |
| 申请号 | CN200780025842.0 | 申请日期 | 2007.11.29 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 森崎英介;小林洋克;原岛正幸 |
| 分类号 | H01L21/205(2006.01)I;C23C16/46(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/205(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙 淳 |
| 主权项 | 1. 一种成膜装置，其特征在于，包括：内部维持在减压空间，并且被供给有成膜气体的处理容器；设置在所述处理容器的内部、用于保持基板的基板保持部；和由含有高熔点金属和碳的化合物构成、设置在所述处理容器的内部、用于加热所述基板的加热器。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||