| 发明名称 | 抗反射板及其抗反射结构的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种抗反射结构的制造方法，包括下列步骤：首先，提供待处理物于反应区内。接着，提供一等离子体源于反应区内。然后，在常压下解离等离子体源形成等离子体。接着，以等离子体处理待处理物的表面，以于待处理物的表面形成多个微突起结构。 | ||
| 申请公布号 | CN101487904A | 申请公布日期 | 2009.07.22 |
| 申请号 | CN200810003180.3 | 申请日期 | 2008.01.15 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 陈志玮;吴清吉;谢文宗;许文通;林春宏 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I;B82B1/00(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 周国城 |
| 主权项 | 1、一种抗反射结构的制造方法，其特征在于，该方法包括：a、提供一待处理物于一反应区内；b、提供一等离子体源于该反应区内；c、在常压下解离该等离子体源形成等离子体；以及d、以等离子体处理该待处理物的表面，以于该待处理物的表面形成多个微突起结构。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹县 | ||