| 发明名称 | 处理衬底的方法和设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于处理衬底的方法和设备，其中该方法包括在衬底表面上产生第一流体弯液面和第二流体弯液面，其中第一流体弯液面大体上邻近第二流体弯液面。弯液面还包括用阻隔件大体上分离第一流体弯液面和第二流体弯液面。该设备包括：邻近头，其包括：第一组导管，限定在邻近头中，所述第一组导管配置为产生第一流体弯液面；第二组导管，限定在邻近头中，所述第二组导管配置为产生第二流体弯液面；以及阻隔件，限定在第一组导管和第二组导管之间，所述阻隔件配置为分离第一流体弯液面和第二流体弯液面。 | ||
| 申请公布号 | CN100517585C | 申请公布日期 | 2009.07.22 |
| 申请号 | CN200510079186.5 | 申请日期 | 2005.06.30 |
| 申请人 | 兰姆研究有限公司 | 发明人 | R·J·奥东内尔;T·W·安德森 |
| 分类号 | H01L21/302(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;B08B3/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/302(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京 |
| 主权项 | 1.一种用于处理衬底的方法，包括：在衬底表面上产生第一流体弯液面和第二流体弯液面，其中第一流体弯液面邻近第二流体弯液面；以及用阻隔件分离第一流体弯液面和第二流体弯液面；产生第一流体弯液面包括通过第一流体入口将第一流体应用于衬底表面，将第一流体从衬底表面通过第一流体出口去除，产生第二流体弯液面包括通过第二流体入口将第二流体应用于衬底表面，将第二流体从衬底表面通过第一流体出口和第二流体出口去除。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||