| 发明名称 | 等离子体处理设备、其气体分配装置及工艺气体提供方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种气体分配装置，用于等离子体处理设备，包括固定连接于所述等离子体处理设备上电极的支撑板，以及固定连接于所述支撑板下方的喷头电极；所述喷头电极设有多个均匀分布的通气单元，所述通气单元包括至少两个轴向贯通所述喷头电极的通气孔；同一所述通气单元中各通气孔的气流喷出方向不同。由于每一通气单元中各通气孔的气流喷射方向均不相同，因此同一通气单元中各通气孔中流出的工艺气体容易相互扰动，进而形成紊流，工艺气体因此会迅速向所述通气孔之间的空间扩散。所以，工艺气体的均匀度可以得到显著地改善。本发明还公开了一种等离子体处理设备及其工艺气体提供方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101489344A | 申请公布日期 | 2009.07.22 |
| 申请号 | CN200810056178.2 | 申请日期 | 2008.01.14 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 徐亚伟 |
| 分类号 | H05H1/34(2006.01)I;H05H1/44(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I | 主分类号 | H05H1/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 逯长明 |
| 主权项 | 1、一种气体分配装置，用于等离子体处理设备，包括固定连接于所述等离子体处理设备上电极的支撑板(5)，以及固定连接于所述支撑板下方的喷头电极(3)；其特征在于，所述喷头电极(3)设有多个均匀分布的通气单元，所述通气单元包括至少两个轴向贯通所述喷头电极(3)的通气孔(31)；同一所述通气单元中各通气孔(31)的气流喷出方向不同。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼北方微电子 | ||