发明名称 |
层厚限制构件的再安装方法、显影装置、图像形成设备、图像形成系统以及显影装置的再生方法 |
摘要 |
通过简单的方法,将层厚限制构件再安装到显影装置。本发明公开了一种用于再安装层厚限制构件的方法,包括如下步骤:从设置有所述层厚限制构件的显影装置拆下所述层厚限制构件,所述层厚限制构件在接触部分接触显影剂承载体,用于限制显影剂承载体上承载的显影剂的层厚;根据存储在所述显影装置中的并且指明下述长度的信息,调节再安装到所述显影装置的所述层厚限制构件从所述层厚限制构件的前端到所述接触部分的长度;以及将所述长度经过调节的所述层厚限制构件再安装到所述显影装置。 |
申请公布号 |
CN100517108C |
申请公布日期 |
2009.07.22 |
申请号 |
CN200580028964.6 |
申请日期 |
2005.08.26 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
冈本克巳 |
分类号 |
G03G15/08(2006.01)I;G03G21/00(2006.01)I;G03G21/18(2006.01)I |
主分类号 |
G03G15/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
王安武 |
主权项 |
1.一种用于再安装层厚限制构件的方法,包括如下步骤:从设置有所述层厚限制构件的显影装置拆下所述层厚限制构件,所述层厚限制构件在接触部分接触显影剂承载体,用于限制所述显影剂承载体上承载的显影剂的层厚;根据存储在所述显影装置中的并且指明下述长度的信息,调节待再安装到所述显影装置的所述层厚限制构件从所述层厚限制构件的前端到所述接触部分的长度;并且将所述长度经过调节的所述层厚限制构件再安装到所述显影装置,其中,所述层厚限制构件包括:接触构件,其接触所述显影剂承载体;和支撑构件,其用于在其一个端部支撑所述接触构件,其中,所述方法包括如下步骤:根据存储在所述显影装置中的并且指明下述距离的信息,调节待再安装到所述显影装置的所述层厚限制构件从参考位置到所述支撑构件的另一个端部在从所述接触构件朝向所述显影剂承载体的方向上的距离,并且其中,在所述将所述层厚限制构件再安装到所述显影装置的步骤中,将所述距离和所述长度经过调节的所述层厚限制构件再安装到所述显影装置。 |
地址 |
日本东京都 |