半导体元件的处理方法以及半导体元件的形成方法

摘要

本发明涉及一种半导体元件的处理方法以及半导体元件的形成方法，主要是在保护层形成于导电部分之前，先以溶液处理该导电部分的顶部表面，其中该溶液包括：清洁剂以及化学接枝前驱物。溶液中可包括整平湿润剂，用来改善该化学接枝前驱物覆盖的均匀度。上述的处理方法能使保护层均匀地覆盖在导体部分上。

主权项

1.一种半导体元件的处理方法，包括：提供半导体元件，具有至少一导电部分；以及在该导电部分上形成保护层前，以溶液处理该导电部分的表面，其中该溶液包括清洁剂以及化学接枝前驱物，该化学接枝前驱物用以改善该保护层在该导电部分上形成的选择性，以及改善该保护层的覆盖均匀性。