| 主权项 |
1.一种枢轴定位结构，包含：至少一限位沟，形成于一第一结构件之一侧面；一轴孔，形成于该第一结构件之另一侧面，而与该限位沟相通；一定位槽，形成于一第二结构件之一第一侧板上，且该第二结构件具一第二侧板，对应于该第一侧板；一穿孔，形成于该第二结构件之第二侧板上，而对应该定位槽，且该第二结构件之第一与第二侧板系分别座落于该第一结构件双侧面，而使该穿孔对应该轴孔，且该定位槽对应该限位沟；及至少一耳板，形成于一螺帽外围，该轴孔与该穿孔内设一螺栓，且该螺栓经由该限位沟延伸至该定位槽外，而螺组该螺帽，令该螺帽之耳板置入该定位槽及该限位沟内，以定位该第一与第二结构件。2.如申请专利范围第1项所述之枢轴定位结构，其中该限位沟系为复数，该等限位沟系交叉且重叠形成于该第一结构件之一侧面。3.如申请专利范围第1或2项所述之枢轴定位结构，其中该限位沟之双端系呈扇形。4.如申请专利范围第1或2项所述之枢轴定位结构，其中该定位槽之轮廓系等同于该限位沟。5.如申请专利范围第1或2项所述之枢轴定位结构，其中该第一结构件系为一固定元件或一活动元件。6.如申请专利范围第1或2项所述之枢轴定位结构，其中该第二结构件系为一固定元件或一活动元件。7.如申请专利范围第1或2项所述之枢轴定位结构，其中该第二结构件系以该螺栓为轴心进行转动，而调整该定位槽对应或脱离该限位沟。8.如申请专利范围第1或2项所述之枢轴定位结构，其中该耳板系为复数，且该等耳板系分别形成于该螺帽之双侧外围。9.如申请专利范围第1或2项所述之枢轴定位结构，其中该螺帽系经由转动该螺栓而移动，以带动该耳板置入或脱离该定位槽及该限位沟。10.如申请专利范围第1或2项所述之枢轴定位结构，其中该螺栓套设一弹簧，以迫紧该螺帽。图式简单说明：图1：为本创作较佳实施例之立体分解图。图2：为本创作之限位沟的一配置示意图。图3：为本创作之定位槽的配置示意图。图4：为本创作之第一及第二结构件的配置示意图。图5：为本创作之枢轴定位结构的一剖示图。图6：为本创作之限位沟的另一配置示意图。图7：为本创作之限位沟的再一配置示意图。图8：为图5之次一使用状态的示意图。图9：为图4之次一使用状态的示意图。图10：为本创作之枢轴定位结构的另一剖示图。图11：为图10之次一使用状态的示意图。图12：为图10之续一使用状态的示意图。图13：为本创作之枢轴定位结构的再一剖示图。图14：为本创作之枢轴定位结构的又一剖示图。 |
