发明名称 附硬涂膜之基材及硬涂膜形成用涂布液
摘要 本发明系提供一种可容易地将折射率调整成特定的范围,同时在硷性区域外尚亦可在酸性区域呈安定之改质氧化锆微粒子。更进一步,可提供一种不会产生干涉条纹,且与基材之密着性、耐擦伤性、刮伤强度、铅笔硬度等优异之附硬涂膜之基材及可形成该硬涂膜之涂布液。本发明之改质氧化锆微粒子,其系表面经五氧化二锑及/或二氧化矽被覆之氧化锆微粒子,以下述条件测定时,该氧化锆微粒子之表面电位系于-120至-10mV的范围;条件(1):改质氧化锆微粒子分散液的固形分浓度为1重量%;条件(2):改质氧化锆微粒子分散液的pH为2至13的范围。本发明之附硬涂膜之基材,系包括基材、与形成于基材之至少一面之表面上之由复合氧化物粒子(改质氧化锆微粒子)与基质(matrix)成分所构成之硬涂膜,其特征为:该复合氧化物粒子为具有以氧化锆作为核,以五氧化二锑(氧化锑,antimony pentaoxide)及/或二氧化矽作为壳之核壳(core-shell)构造的复合氧化物粒子,且硬涂膜之折射率(HC#sB!n#eB!)与基材之折射率(S#sB!n#eB!)之折射率差为0.3以下者。本发明之硬涂膜形成用涂布液,系由复合氧化物粒子与基质形成成分所构成之硬涂膜形成用涂布液,其特征为:该复合氧化物粒子系具有以氧化锆作为核且以五氧化二锑及/或二氧化矽作为壳之核壳构造的复合氧化物粒子。
申请公布号 TW200922877 申请公布日期 2009.06.01
申请号 TW097133059 申请日期 2008.08.29
申请人 日挥触媒化成股份有限公司 发明人 村口良;熊泽光章;二神涉;俵迫佑二;松田政幸;平井俊晴
分类号 C01G25/02(2006.01);B01J13/00(2006.01);C07F7/02(2006.01);C08J7/04(2006.01);B32B27/06(2006.01) 主分类号 C01G25/02(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本