蚀刻剂

摘要

本发明提供一种以半加成法除去无电镀铜层时，能够防止配线图案尺寸精度降低之蚀刻剂。本发明之第1蚀刻剂，系一种包含硫酸、过氧化氢及水之铜蚀刻剂，其特征在于，包含有在分子中具有两个以上之羧基及羟基之至少一者的苯并三唑衍生物。又，本发明之第2蚀刻剂，系一种包含硫酸、过氧化氢及水之铜蚀刻剂，其特征在于，包含有仅具有氮原子作为存在于环内之杂原子的唑类、及具有两个以上之羧基的多元酸或其盐。