发明名称 基板处理装置及基板处理方法
摘要 本发明提供一种抑制在处理槽内部之处理液搅拌,且可效率良好地将粒子等异物排出至处理槽外部之基板处理装置。基板处理装置1从喷出喷嘴13朝向形成于内槽11之侧壁112a、112b之沟部14喷出氢氟酸溶液。因此,从喷出喷嘴13所喷出之氢氟酸溶液碰到沟部14而扩散,作为低速且均匀之液流而朝向内槽11之上部行进。因此,产生在内槽11内部之金属成分或异物不在内槽11之内部被搅拌而朝向内槽11之上部浮起,且与氢氟酸溶液一同迅速地排出至外槽12。
申请公布号 TW200924044 申请公布日期 2009.06.01
申请号 TW097133788 申请日期 2008.09.03
申请人 大日本网屏制造股份有限公司 发明人 大泽笃史;我孙子良隆
分类号 H01L21/304(2006.01) 主分类号 H01L21/304(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本
您可能感兴趣的专利