发明名称 一种雷射校正片及雷射校正系统
摘要 本发明系提供一种雷射校正片及雷射校正系统,该雷射校正片包含一设有校正图案之不透光层,以及设置于该不透光层底面之基底层;该不透光层可采用涂布、电镀或黏贴技术成型不透光于该基底层顶面;该基底层可采用透明材质、发光体或透明材质加设背光源,或采用金属材质或设置反射层等方式,使该基底层与该不透光层之色彩或亮度具有高对比;藉由影像撷取装置撷取该雷射校正片之影像,再将所撷取之影像传送至一处理单元进行解析;藉此可解决人工离线校正耗时且不精准之问题,且可应用于各种不同之雷射波段。
申请公布号 TW200922724 申请公布日期 2009.06.01
申请号 TW096145525 申请日期 2007.11.30
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 吕绍铨;李闵凯;刘松河
分类号 B23K26/00(2006.01) 主分类号 B23K26/00(2006.01)
代理机构 代理人 锺庆桦
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号