发明名称 半导体装置
摘要 本发明提供一种半导体装置。此半导装置,包含一基底、一形成在此基底上方的磊晶层,以及一汲极、一源极及一闸极,形成于上述磊晶层上。上述闸极具有对称且封闭的几何形状,且此闸极完整地设置于一主动区域,并未跨越一绝缘区域。上述闸极系避免跨越上述绝缘区域设置,藉此可改善半导体装置的崩溃电压及其可靠性。
申请公布号 TW200924194 申请公布日期 2009.06.01
申请号 TW096143848 申请日期 2007.11.20
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 李定骐;林于轩;徐硕鸿
分类号 H01L29/78(2006.01) 主分类号 H01L29/78(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号