发明名称 | 光罩及薄膜电晶体基板 | ||
摘要 | 一种光罩及薄膜电晶体基板。光罩系用以制造一薄膜电晶体基板。光罩具有一第一曝光区、一第二曝光区及一第三曝光区。第二曝光区系位于第一曝光区及第三曝光区之间。光罩包括一第一周边线路图案、一第一虚拟引线图案、一第一重合画素图案及一第二重合画素图案。第一周边线路图案系位于第一曝光区。第一虚拟引线图案系位于第一曝光区,并邻接于第一周边线路图案。第一重合画素图案系位于第一曝光区,并邻接于第一虚拟引线图案。第二重合画素图案系位于第二曝光区,第一重合画素图案与第二重合画素图案互补。其中第一重合画素图案与第二重合画素图案重叠曝光后,第一曝光区与第二曝光区所曝光之图案相互接合。 | ||
申请公布号 | TW200924062 | 申请公布日期 | 2009.06.01 |
申请号 | TW096145135 | 申请日期 | 2007.11.28 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 林雪惠;蔡居宏 |
分类号 | H01L21/32(2006.01);H01L29/786(2006.01) | 主分类号 | H01L21/32(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 祁明辉;林素华 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 |