发明名称 |
多孔质二氧化矽先质物组成物及其制作方法,多孔质二氧化矽膜及其形成方法,半导体元件,图像显示装置,及液晶显示装置 |
摘要 |
本发明系提供一种中性的多孔质二氧化矽先质物组成物。多孔质二氧化矽先质物组成物,其系含有化学式1:R#sP!1#eP!m(R#sP!2#eP!-O)#sB!4-m#eB!Si(式中,R#sP!1#eP!及R#sP!2#eP!为烷基,可为相同或相异,m表示0~3之任一整数)所表示的有机矽烷、水、醇与化学式2:R#sP!3#eP!N(R#sP!4#eP!)#sB!3#eB!X(式中,R#sP!3#eP!及R#sP!4#eP!为烷基,可为相同或相异,X表示卤素原子)所表示的第4级铵化合物。 |
申请公布号 |
TW200924060 |
申请公布日期 |
2009.06.01 |
申请号 |
TW097130423 |
申请日期 |
2008.08.08 |
申请人 |
爱发科股份有限公司 |
发明人 |
中山高博;野末龙弘;村上裕彦 |
分类号 |
H01L21/312(2006.01);H01L21/314(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/312(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |