发明名称 多孔质二氧化矽先质物组成物及其制作方法,多孔质二氧化矽膜及其形成方法,半导体元件,图像显示装置,及液晶显示装置
摘要 本发明系提供一种中性的多孔质二氧化矽先质物组成物。多孔质二氧化矽先质物组成物,其系含有化学式1:R#sP!1#eP!m(R#sP!2#eP!-O)#sB!4-m#eB!Si(式中,R#sP!1#eP!及R#sP!2#eP!为烷基,可为相同或相异,m表示0~3之任一整数)所表示的有机矽烷、水、醇与化学式2:R#sP!3#eP!N(R#sP!4#eP!)#sB!3#eB!X(式中,R#sP!3#eP!及R#sP!4#eP!为烷基,可为相同或相异,X表示卤素原子)所表示的第4级铵化合物。
申请公布号 TW200924060 申请公布日期 2009.06.01
申请号 TW097130423 申请日期 2008.08.08
申请人 爱发科股份有限公司 发明人 中山高博;野末龙弘;村上裕彦
分类号 H01L21/312(2006.01);H01L21/314(2006.01) 主分类号 H01L21/312(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本