发明名称 | 静态随机存取记忆体及其制造方法 | ||
摘要 | 一种静态随机存取记忆体,此静态随机存取记忆体至少包括:多个电晶体,设置于基底上,其中每一电晶体至少包括闸极、闸极介电层、源极掺杂区与汲极掺杂区,并且在源极掺杂区中,部份的源极掺杂区用以连接至Vss电压或Vdd电压;以及自行对准金属矽化层,设置于闸极、源极掺杂区与汲极掺杂区上,其中在用以连接至Vss电压、Vdd电压的源极掺杂区上未设置自行对准金属矽化层。 | ||
申请公布号 | TW200924170 | 申请公布日期 | 2009.06.01 |
申请号 | TW096145413 | 申请日期 | 2007.11.29 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 萧崇利 |
分类号 | H01L27/115(2006.01);H01L21/8247(2006.01) | 主分类号 | H01L27/115(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |