| 摘要 |
本发明系关于形成含有(A)基质树脂、(B)酸产生剂、(C)硷性化合物之光阻膜的光罩空白基板，光阻膜为尚含有(D)含有具备下述侧链之第1重复单位的高分子化合物，前述侧链系具有羟基之氟取代烃基，上述羟基键结之碳原子所键结之邻接碳原子具有该邻接碳原子整体有2以上之氟原子键结之第1氟取代烃基的侧链。藉由添加(D)成份之高分子化合物的光阻膜在光阻图型之形成时，显像步骤中，光阻膜整体均匀显像，因此显像后，可形成线宽之面内均一性较高的光阻图型，特别是由设置添加(D)成份之高分子化合物之光阻膜的光罩空白基板，使用此光阻膜之光阻图型，可得到面内精度高的光罩。 |
