发明名称 |
污染防止系统,微影装置,辐射源及器件之制造方法 |
摘要 |
本发明揭示一种污染防止系统,其经建构及配置以防止材料随辐射而传播至一微影装置中。该污染防止系统包括一具备复数个整体径向向外延伸叶片之可旋转载体。该等叶片经建构及配置以吸收或偏转该材料。该系统亦包括一静止机械轴,及一经建构及配置以围绕该机械轴而旋转该可旋转载体及该等叶片之轴承。该可旋转载体具备一用于至少部分地收纳该机械轴之一部分的空间。 |
申请公布号 |
TW200916971 |
申请公布日期 |
2009.04.16 |
申请号 |
TW097120969 |
申请日期 |
2008.06.05 |
申请人 |
ASML荷兰公司 |
发明人 |
爱得恩 乔汉 布斯;克莉丝汀娜 艾利珊卓 胡甄丹;艾莉珊卓 马修思 史崔肯;亚诺德 柯尼利 瓦新可;爱里克 赛多尔 马里亚 毕尔特;保罗 彼特 安 安东尼 柏 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03B27/52(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |