发明名称 低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法及抗反射材料
摘要 本发明提供于水接触角高的基材上可形成亦可低温度硬化,为高光穿透性、高硬度的耐擦伤性优异之具有低折射率的被膜之被膜形成用涂布液,其制造方法,以及使用该被膜之抗反射材料。本发明之低折射率被膜形成用涂布液含有:具有含氟有机基结合之矽原子之聚矽氧烷(A),碳数20以下的直链烷基胺化合物(B),以及全体碳数为20以下且其构造中具有碳数10以下的环状基之胺化合物(C)。
申请公布号 TW200916540 申请公布日期 2009.04.16
申请号 TW097118323 申请日期 2008.05.16
申请人 日产化学工业股份有限公司 发明人 根木隆之;元山贤一
分类号 C09D183/08(2006.01);C09D7/12(2006.01);C09D5/00(2006.01);B32B27/00(2006.01);G02B1/11(2006.01) 主分类号 C09D183/08(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本