| 发明名称 | 基板载置机构及具备该基板载置机构的基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明之课题在于提供：可以更为提升温度均匀性之基板载置机构。本发明的解决手段为具备：埋设有发热体（102）之石英制加热器本体（101）；及被积载于石英制加热器本体（101）的被处理基板载置面（103）上之耐蚀性陶瓷构件（104）。 | ||
| 申请公布号 | TW200916601 | 申请公布日期 | 2009.04.16 |
| 申请号 | TW097120252 | 申请日期 | 2008.05.30 |
| 申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 田中澄;小松智仁;川崎裕雄 |
| 分类号 | C23C16/46(2006.01);H01L21/205(2006.01);H01L21/31(2006.01);H05B3/74(2006.01) | 主分类号 | C23C16/46(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
| 主权项 | |||
| 地址 | 日本 | ||