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Eine Beleuchtungsoptik (1) für die Mikrolithographie dient zur Führung eines Beleuchtungslicht-Bündels (2) von einer Lichtquelle (3) hin zu einem Objektfeld (4). Ein Facettenelement (6) mit einer Mehrzahl quer zur Erstreckung des Beleuchtungslicht-Bündels (2) versetzt zueinander angeordneter Facetten (7a bis 7g) dient zur Formung des Beleuchtungslicht-Bündels (2) zur Vorgabe definierter Beleuchtungsverhältnisse im Objektfeld (4). Eine Folgeoptik (9) dient zur Überführung des Beleuchtungslichts (2) in das Objektfeld (4). Das Facettenelement (6) beeinflusst das Beleuchtungslicht-Bündel (2) derart, dass ein über das Beleuchtungslicht-Bündel (2) variierender Einfluss der Folgeoptik (9) auf die Intensität von Teilbündeln (8a bis 8g; 8e') des Beleuchtungslicht-Bündels (2) kompensiert wird. Bei einem Verfahren zur Korrektur von Beleuchtungseigenschaften einer derartigen Beleuchtungsoptik wird zunächst eine ortsabhängige Intensitätsbeeinflussung der Folgeoptik (9) über eine Pupillenebene (10) einer Projektionsoptik, die der Beleuchtungsoptik (1) nachgeordnet ist, oder über eine Ebene, die zu der Pupillenebene (10) optisch konjugiert ist, bestimmt. Nachfolgend werden Facetten (7) des Facettenelements (6) Abschnitten (Y1, Y2) in der Pupillenebene (10), in der die Bestimmung vorgenommen wurde, derart zugeordnet, dass durch ortsabhängige Beaufschlagung in der Pupillenebene (10) mit Beleuchtungslicht-Anteilen (8) unterschiedlicher Anzahl und/oder unterschiedlicher Intensität die ...
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