应用于增亮膜之微型Ｖ沟槽制造方法

摘要

本发明一种应用于增亮膜之微型V沟槽制造方法，主要以黄光制程中的近接式曝光原理制作微型V沟槽结构的简单方法，其主要步骤是利用光阻材料，搭配光罩尺寸的设计，并调整光阻与光罩间的间距，得到一连续的锯齿状沟槽，可用于LCD中背光模组的增亮膜使用，并可阵列化大量生产、有效降低生产成本与时间，亦可广泛应用于各种尺寸的萤幕增亮膜上，如手机萤幕、LCD液晶萤幕、电浆电视及各种显示器的应用等。