| 发明名称 |
电浆反应器腔室中具有晶圆边缘气体注入之阴极衬垫 |
| 摘要 |
本文相关于一晶圆支撑，其用于一电浆反应器腔室，其中该晶圆支撑具有一晶圆边缘气体注入器，其邻接并围绕晶圆边缘。 |
| 申请公布号 |
TW200917414 |
申请公布日期 |
2009.04.16 |
| 申请号 |
TW097134230 |
申请日期 |
2008.09.05 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
卡兹丹;帕拉葛西维里大卫;威尔沃夫麦可Ｄ;托多罗瓦伦汀Ｎ;彼得森亚历桑德Ｍ |
| 分类号 |
H01L21/683(2006.01);H01L21/67(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/683(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
