一种记忆体的制造方法

摘要

一种记忆体的制造方法，首先提供一基材，其上分别包含水平相邻之控制闸极区与浮动闸极区，浮动闸极区包含牺牲层与牺牲侧壁层。其次，移除牺牲层与牺牲侧壁层以暴露出基材。然后，形成与控制闸极区邻接之介电侧壁。接着，于暴露出的基材上形成浮动闸极介电层。以及，形成位于浮动闸极介电层上并与介电侧壁邻接之浮动闸极层。