乾式蚀刻制程

摘要

一种乾式蚀刻制程，适用于蚀刻一膜层，使膜层于蚀刻后在不同的区域形成不同的图案密度，膜层上已形成有一层图案化的罩幕层。在对此膜层进行蚀刻步骤之前，先进行充电步骤，使带正电之多个离子附着于膜层裸露出之表面。