发明名称 输送系统的输送位置对准方法
摘要 本发明提供一种输送系统的输送位置对准方法,不管输送系统的构成组件的安装情况,都能高效率地进行精度很高的输送位置对准。其进行以下工序:求出通过输送路径(X23、X24)在定向器(320)和第2处理室(220B)之间输送虚设晶圆(Wd)时的、与第2处理室的输送位置的可进行位置偏移校正的方向相对应的定向器的输送位置的可进行位置偏移校正的方向,由此得到位置偏移校正用坐标系的工序、使通过基准输送路径(X21、X22)从定向器输送到第2处理室的虚设晶圆从第2处理室通过输送路径(X23、X24)返回到定向器而对输送前后的虚设晶圆的位置偏移进行检测的工序、基于位置偏移校正用坐标系,对经由输送路径(X23、X24)的第2处理室的输送位置进行校正,以消除检测到的位置偏移的工序。
申请公布号 CN101410226A 申请公布日期 2009.04.15
申请号 CN200780011390.0 申请日期 2007.12.19
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 木村延树
分类号 B25J9/22(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I 主分类号 B25J9/22(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人 刘新宇;张会华
主权项 1.一种输送系统的输送位置对准方法,该输送系统具有对被输送物的位置偏移进行检测的位置对准机构和可搬入上述被输送物的组件,通过多个输送路径能将上述被输送物输送到上述位置对准机构和上述组件的规定输送位置上,其中以上述多个输送路径之一作为基准输送路径时,该输送位置对准方法用于使经由其他输送路径的输送位置与上述组件中的经由上述基准输送路径的输送位置对准,其特征在于,包括以下工序:使从上述位置对准机构通过上述基准输送路径输送到上述组件的位置对准用被输送物通过上述其他输送路径从上述组件返回到上述位置对准机构,对输送前后的上述位置对准用被输送物的位置偏移进行检测的工序、将从上述组件的输送位置沿可以进行位置偏移校正的方向错开规定错开量的位置对准用被输送物通过上述其他输送路径从上述组件输送到上述位置对准机构而对上述位置对准用被输送物的位置偏移进行检测,还改变上述错开量并重复多次上述位置偏移检测,基于由此得到的多个位置偏移的检测结果,求出与上述组件的输送位置的可进行位置偏移校正的方向相对应的上述位置对准机构的输送位置的位置偏移方向,从而算出上述位置偏移校正用座标系的工序、以及基于上述位置偏移校正用座标系,对经由上述其他输送路径的上述组件的输送位置进行校正,以消除上述检测到的位置偏移的工序。
地址 日本东京都