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发明名称 System and method of wafer processing and ion implantation
摘要
申请公布号 EP1662548(B1) 申请公布日期 2009.04.15
申请号 EP20050256671 申请日期 2005.10.27
申请人 SEN CORPORATION, AN SHI AND AXCELIS COMPANY 发明人 SATO, FUMIAKI;OKADA, KEIJI;NAKAOKA, HIROAKI
分类号 H01L21/00;H01L21/677 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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