发明名称 |
三维量子阱NMOS集成器件及其制作方法 |
摘要 |
本发明公开了一种三维量子阱NMOS集成器件及其制作方法,它涉及微电子技术领域,主要解决现有三维集成电路速度低的问题。其方案是分别采用SSOI和SGOI衬底构建新的三维集成器件的两个有源层。其中,下层有源层采用SSOI衬底,利用SSOI衬底中应变Si材料电子迁移率高的特点,制作应变Si NMOSFET;上层有源层采用SGOI衬底,在该衬底上生长一个应变Si/弛豫SiGe双层结构,制作应变Si量子阱沟道NMOSFET,之间通过互连线连接,构成导电沟道为65~130nm的三维量子阱NMOS集成器件。本发明制造的三维量子阱NMOS集成器件与现有三维集成器件相比,具有速度快和性能好的优点,该器件可用于制作大规模、高速三维集成电路。 |
申请公布号 |
CN101409297A |
申请公布日期 |
2009.04.15 |
申请号 |
CN200810232452.7 |
申请日期 |
2008.11.28 |
申请人 |
西安电子科技大学 |
发明人 |
张鹤鸣;胡辉勇;宣荣喜;戴显英;舒斌;宋建军;徐小波 |
分类号 |
H01L27/12(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/12(2006.01)I |
代理机构 |
陕西电子工业专利中心 |
代理人 |
王品华;黎汉华 |
主权项 |
1.一种三维量子阱NMOS集成器件,包括上层有源层和下层有源层,其中,下层有源层采用SSOI结构,即在SSOI衬底上制作应变Si NMOSFET器件;上层有源层采用SGOI衬底制作应变Si量子阱沟道NMOSFET器件,两层之间通过SiO2介质层键合。 |
地址 |
710071陕西省西安市太白路2号 |