光刻导轨设备中分立式热板系统

摘要

本发明公开了一种光刻导轨设备中分立式热板系统。和现有的普通单一热板不同，本发明由许多分立的可以单独控制温度的热板组合形成。因为光刻工艺的表现和热板温度有直接联系，通过分立式热板对硅片不同区域分别加热，局部控温精度更好而且整体分布可控。使用了本发明的分立式热板系统后，可以大大提高光刻工艺中涂胶、显影工艺的硅片面内均一性，尤其对于越大尺寸的硅片效果越明显。同时通过分立式热板系统可以分区域控温，通过加热冷却来升高或降低热板温度以影响光刻工艺的特性，可以通过在光刻工艺中引入温度分布来降低前工程(如薄膜成长，化学机械抛光等)引入的硅片不均匀导致的光刻工艺窗口缩小，从而增加了光刻工艺窗口。

主权项

1、一种光刻导轨设备中分立式热板系统，其特征在于，该分立式热板系统由数个各自能被加热或冷却的分立的热板组成。