发明名称 |
用于监视激光冲击处理的系统和方法 |
摘要 |
一种用于监视工件(18)的激光冲击喷射的方法和系统(14)。线谱从激光冲击喷射工艺产生的等离子体发射的辐射得到。将线谱在其发射峰周围的形状与限定的线形比较以验证激光冲击喷射工艺的适当操作。线形可以是对应于所希望线形的洛伦兹线形。线形可以是对应于不希望线形的高斯线形。通过检测工件材料产生的等离子体光谱分量并一道检测不透明层产生的等离子体,系统(14)还可以检测出现在不透明层(22)被烧穿时的故障模式。 |
申请公布号 |
CN100478456C |
申请公布日期 |
2009.04.15 |
申请号 |
CN200510104148.0 |
申请日期 |
2005.09.15 |
申请人 |
通用电气公司 |
发明人 |
P·P·吴;P·K·贝尼策维茨;M·N·阿泽尔 |
分类号 |
C21D1/09(2006.01)I;H01S3/00(2006.01)I |
主分类号 |
C21D1/09(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
杨 凯;张志醒 |
主权项 |
1.一种激光冲击喷射工艺监视方法,包括:产生从激光冲击喷射系统产生的等离子体发射的辐射的线谱;将所述线谱转换成表示所述线谱的信号;将表示所述线谱的信号转换成所述线谱的图形表示;产生所述线谱的图形表示的曲线拟合;比较线谱的图形表示中的谱线展宽和所述线谱的图形表示的曲线拟合中的谱线展宽以确定在所述激光冲击喷射工艺期间所述线谱是否对应于希望的线谱;以及控制所述激光冲击喷射系统以改变所述激光冲击喷射系统产生的激光束的激光能量、工件上的激光束直径、上升时间、或脉冲宽度的至少其中之一,以根据比较产生所述等离子体。 |
地址 |
美国纽约州 |