| 发明名称 | 使用软光刻法形成纳米级特征的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供使用软光刻法形成分子膜的方法。该方法包括在可模塑的聚合物组合物中形成具有至少一个纳米级特征的图案，和将所述图案的至少一部分配置成与第一衬底邻近。 | ||
| 申请公布号 | CN101410753A | 申请公布日期 | 2009.04.15 |
| 申请号 | CN200780011131.8 | 申请日期 | 2007.03.09 |
| 申请人 | 陶氏康宁公司 | 发明人 | A·施姆;J·罗杰斯;F·华;K·法;P·波恩 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;B01L3/00(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 张 钦 |
| 主权项 | 1.一种方法，其包括：在可模塑的聚合物组合物中形成包括至少一个纳米级特征的图案，和将所述图案的至少一部分配置成与第一衬底邻近。 | ||
| 地址 | 美国密执安 | ||