| 发明名称 | 晶圆表面与工艺微粒与缺陷的监控方法 | ||
| 摘要 | 一种晶圆表面与工艺微粒与缺陷的监控方法，其中晶圆表面微粒与缺陷的监控方法是利用一量测机台以监测一晶圆实质有效表面上的微粒与缺陷。在监测之前，先在晶圆实质有效表面上形成一实质均匀的共形披覆层，并控制其厚度以使晶圆表面上可能有效的微粒与缺陷轮廓被适当放大。 | ||
| 申请公布号 | CN101409244A | 申请公布日期 | 2009.04.15 |
| 申请号 | CN200810175531.9 | 申请日期 | 2002.03.06 |
| 申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 陈石晏;曾昭权 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/66(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿 宁;张华辉 |
| 主权项 | 1、一种晶圆表面微粒与缺陷的监控装置，其特征在于其包括：一机台，量测在一晶圆实质有效表面上形成一实质均匀的共形披覆层，所监控的微粒与缺陷的尺寸为小于0.1微米。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹 | ||