发明名称 层图案制造方法、配线制造方法、电子设备的制造方法
摘要 一种层图案制造方法,包括通过形成位于基板上的第1材料层和位于所述第1材料层上的第2材料层,在所述基板上形成由所述第1材料层和所述第2材料层划出的区域的步骤(a)、和从喷出装置的喷出部向所述区域喷出液状的材料的步骤(b)。此外,所述第1材料层的相对于所述液状的材料的疏液性低于所述第2材料层的相对于所述材料的疏液性。由此,可以精度优良地稳定地形成微细化的层图案。
申请公布号 CN100479633C 申请公布日期 2009.04.15
申请号 CN200410063861.0 申请日期 2004.07.13
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 酒井宽文;樱田和昭
分类号 H05K3/14(2006.01)I;H05K3/46(2006.01)I;B05C5/00(2006.01)I 主分类号 H05K3/14(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李香兰
主权项 1.一种层图案制造方法,其特征是,包括:通过形成位于基板上的第1材料层和位于所述第1材料层上的第2材料层,在所述基板上形成由所述第1材料层和所述第2材料层划出的区域的步骤a)、和从喷出装置的喷出部向所述区域喷出液状的材料的步骤b),所述第1材料层相对于所述液状的材料的疏液性低于所述第2材料层相对于所述液状的材料的疏液性。
地址 日本东京